光源とターゲットの冷却を行うことにより、温度上昇による装置と露光対象の伸縮を防ぎます。
工作機械の周囲温度を安定することにより機械本体と加工物の熱収縮起因の精度のばらつきを防ます。
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金型、工具などの精密加工の後の測定には周囲温度の安定が不可欠です。その精度により、簡易ブースタイプから断熱パネルルームまで、様々な形式で対応いたします。
その検査精度実現の為、吹出温度精度±0.05℃、かつワーク面多点精度温度分布精度±0.1℃の制御を行います。
半導体、液晶などのレジスト塗布装置の周囲の温湿度を精密に管理することにより塗布厚の安定を実現します。
記録メディアの品質を左右する溶剤塗布の膜圧の均一化の為、周囲温度や湿度を精密に制御します。
半導体、液晶製造工程などで使用する、電子ビームによるマスク描画は、温度のゆらぎによる光の屈折が厳禁です。周囲温度精度向上の為、チャンバーも含めたご提案を致します。
レーザーを利用した、表面改質、アニールなど様々な用途の 微細化に、周囲温度精度向上で対応いたします。光漏れ防止も配慮いたします。
電子材料等の保管庫の温度、湿度を一定に保持することにより、材料の変質、酸化、膨張などを防ぎます。
装置内を30%以下の低湿度に保持し、材料の吸湿による改質、分解などを防ぎます。
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