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精密温調ユニット・恒温ブース

精密温湿度コントロールの実現。
微細加工プロセスにおける装置周辺の温度・湿度・クリーン度を精密に制御し、高品質なものづくりをサポートします。

  • 伸縮防止
  • 測定精度向上
  • 膜付けの厚み均一

  • 光の屈折防止
  • 吸湿防止

伸縮防止


ナノテクノロジー関連をはじめとする微細加工においては、機械装置や加工物の温度変化による伸縮が致命的となります。これを安定させる為には周囲温度を高い精度で一定に保持しなければなりません。精密加工現場での豊富な実績を通じ対象工程に最適な風量、気流の設計で安定した生産に貢献いたします。

露光

光源とターゲットの冷却を行うことにより、温度上昇による装置と露光対象の伸縮を防ぎます。
露光

精密加工

工作機械の周囲温度を安定させることにより機械本体と加工物の熱伸縮起因の精度のばらつきを防ます。
精密加工

測定精度向上


様々な業界の微細加工化に伴い、その品質検証の為の測定もまた、大変高精度になってきました。その測定精度向上には周囲温度の安定が不可欠です。当社は各種測定器メーカーとタイアップし、その問題解決を通じ、様々なノウハウを蓄積して参りました。

三次元測定器

金型、工具などの精密加工の後の測定には周囲温度の安定が不可欠です。その精度により、簡易ブースタイプから断熱パネルルームまで、様々な形式で対応いたします。
三次元測定器

超精密検査装置

その検査精度実現の為、吹出温度精度±0.02℃、かつワーク面多点精度温度分布精度±0.1℃の制御を行います。
超精密検査装置

膜付けの厚み均一


液晶や半導体などに不可欠な膜付けにおいて、その膜圧の均一性は品質に多大な影響を与えます。
その実現の為には装置の周囲の温度、湿度の精密な管理が必要です。当社は各種装置メーカーとのタイアップを通じた技術の蓄積によりお客様の問題解決に寄与いたします。

レジスト塗布工程

半導体、液晶などのレジスト塗布装置の周囲の温湿度を精密に管理することにより塗布厚の安定を実現します。
レジスト塗布工程

基盤(LCD/PDP/PWB)の印刷

記録メディアの印刷機周囲の温湿度を一定に保つことによりインクの粘度、揮発量を安定させ、品質向上を実現します。
基盤(LCD/PDP/PWB)の印刷

光の屈折防止


光を使った加工技術は、その高波長化により、益々微細化の一途をたどりナノレベルにまで達しています。その為には微妙な温度むらによる光の屈折が致命的となります。当社は様々な装置用に実績を重ね、その装置に最適な温調空間を提供いたします。

マスク描画

半導体、液晶製造工程などでしようする、電子ビームによるマスク描画は、温度のゆらぎによる光の屈折が厳禁です。周囲温度精度向上の為、チャンパーも含めたご提案をいたします。
マスク描画

各種レーザー加工装置

レーザーを利用した、表面改質、アニールなど様々な用途の 微細化に、周囲温度精度向上で対応いたします。光漏れ防止も配慮いたします。
各種レーザー加工装置

吸湿防止


粉体や樹脂など、空気中の水分を吸収しやすい材料は、湿度による大きさ、重さ、性質が変化します。その安定化の為には周囲湿度の安定が不可欠です。当社は、通常湿度はもちろん、30%以下の低湿度空間も実現いたします。

材料保管

電子材料等の保管庫の温度、湿度を一定に保持することにより、材料の変質、酸化、膨張などを防ぎます。
材料保管

電池・化学材料の製造・保管・開発
コーティング工程

吸湿による材料の変質、酸化、膨張を防ぎ、電池や 化学材料の品質安定に貢献します。
錠剤製造、コーティング工程

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