高清浄度を既設で局所的に、クリーンブースやクリーンベンチにて対応。圧空やアースなどのターミナルもコンパクトに内蔵可能

精密加工、測定、露光、塗布などで必要な温度、湿度の高精度な制御をブース形状で実現可能。

水分が致命的となる各種製造工程用装置内の低湿化を最大で露点−60℃まで実現いたします。ブース形式、チャンバー形式といった周囲まで設計製作します。